一、溫控設備選型核心要素1.溫度范圍：o必須覆蓋工藝所需溫度。o制冷下限：工藝要求的下限溫度是多少？（如-30°C,-50°C,-80°C？）。設備下限溫度應低于工藝需求（預留裕量）。o加熱上限：工藝要求的上限溫度是多少？（如150°C,200°C,250°C）。設備上限溫度應高于工藝需求。2.控溫精度與穩定性：o精度：工藝對溫度控制的精...
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一、溫控設備選型核心要素1.溫度范圍：o必須覆蓋工藝所需溫度。o制冷下限：工藝要求的下限溫度是多少？（如-30°C,-50°C,-80°C？）。設備下限溫度應低于工藝需求（預留裕量）。o加熱上限：工藝要求的上限溫度是多少？（如150°C,200°C,250°C）。設備上限溫度應高于工藝需求。2.控溫精度與穩定性：o精度：工藝對溫度控制的精...
無論在實驗室、化工還是電工電子、生物制藥領域，高低溫一體機都扮演著重要角色，為各行各業的研究和創新，提供有力的支持!1、高低溫一體機簡介高低溫一體機是一種全自動控制的設備，一臺設備即可提供高溫和低溫源。它集加熱、制冷、控溫等功能于一體，能夠滿足不同應用對溫度的需求，具有高效、穩定、便捷的特點。2、高低溫一體機工作原理高低溫一體機主要通過電加熱器加熱與壓縮制冷相結合的技術實現對不同溫度的高精度控制。其內部主要包含電加熱器、壓縮機、冷凝器、蒸發器、膨脹閥等部件。當需要降低溫度時，...
ZTM系列密閉制冷加熱循環裝置要求安裝于室內，可與其它設備聯用，為需冷(熱)源實驗或生產過程提供可調節溫度環境，滿足工藝過程需求。載熱體輸出溫度范圍-40～200℃，溫度穩定性±0.5℃。應用范圍：化工、制藥或生物領域雙層反應釜的溫度控制、高壓反應釜溫度控制、汽車工藝中熱測試平臺溫度控制、微反應器技術領域的放大工藝過程溫度控制、半導體設備溫度控制、攪拌罐溫度控制、蒸餾系統溫度控制產品拆封安裝前，請注意以下注意事項：1.電源連接按照設備銘牌中要求的電源性質提供電源...
循環冷卻器適用于需要維持低溫條件的儀器或設備。例如旋轉蒸發儀、生物發酵罐、反應釜、化學反應器、原子吸收、ICP、ICP-MS、核磁共振、電鏡、磁控濺射、激光器等配套場景均可配備循環冷卻器進行降溫使用。那么，選擇循環冷卻器需要關注哪些要點？正確使用方法及步驟有哪些？以下給大家做一簡單介紹。01循環冷卻器的工作原理循環冷卻器中的冷卻介質(一般使用乙二醇水溶液或純水)在制冷系統中經過降溫、PID控溫后達到預定溫度，通過循環系統將其輸送至需冷設備進行降溫，降溫后返回制冷系統進行下一次...
一、產品創新點：抗強化學腐蝕，無污染、免保養，低噪音、低震動，過熱保護。二、產品介紹：MP-201ZA隔膜真空泵為蒸發、蒸餾、結晶、干燥、升華、減壓過濾等過程提供負壓條件。可替代循環水式真空泵和旋片式真空泵、體積小，重量輕。廣泛運用于化學、制藥、石化等行業對腐蝕性樣品的處理需求，如電泳轉漬、固相萃取、溶劑純化配旋轉蒸發儀等。三、主要特點：1、抗強化學腐蝕：耐腐蝕真空泵使用了特殊的隔膜(膜片表面復合PTFE涂層)和泵頭設計，包括全部接頭和管路，保證與氣體接觸的部分均為進口PTF...
低溫恒溫攪拌反應浴是一種重要的化學實驗設備，它能夠精確控制化學反應的溫度，從而提高實驗的精度和可靠性。然而，影響低溫恒溫攪拌反應浴控溫靈敏度的因素是多方面的，包括反應浴液體積、液體深度、液體攪拌速度、環境溫度以及溫度傳感器位置等。下面，我們將對這些因素進行詳細的分析。首先，反應浴液體積是影響控溫靈敏度的重要因素之一。液體體積越大，溫度變化所需要的能量也越大。反之，反應浴液體積較小時，即使溫度變化很小，也會導致實驗結果出現不同。因此，在使用低溫恒溫攪拌反應浴時，需要根據實驗要求...
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張經理
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